دانلود مقاله ساختار های دور آلاییده

Word 7 MB 4772 150
مشخص نشده مشخص نشده فیزیک - نجوم
قیمت قدیم:۳۰,۰۰۰ تومان
قیمت: ۲۴,۸۰۰ تومان
دانلود فایل
  • بخشی از محتوا
  • وضعیت فهرست و منابع
  •  

    چکیده

    در ساختارهای Si/SiGe/Si که بوسیله روش رونشانی پرتو مولکولی رشد می­یابند به دلیل ناپیوستگی نوار ظرفیت یک چاه کوانتومی در نوار ظرفیت و در لایه SiGe شکل می­گیرد اگر لایه­های مجاور با ناخالصی­های نوع p آلاییده شده باشند حفره­های لایه آلاییده به داخل چاه کوانتومی می­روند و تشکیل گاز حفره­ای دوبعدی در میانگاه نزدیک لایه آلاییده می­دهند اینگونه ساختارها را ساختار دورآلاییده می نامند .به دلیل جدایی فضایی بین حاملهای آزاد دوبعدی و ناخالصی­های یونیده در ساختارهای دورآلاییده برهمکنش کولنی کاهش یافته و درنتیجه پراکندگی ناشی از ناخالصی­های یونیده کاهش و به تبع آن تحرک­پذیری حاملهای آزاد دوبعدی افزایش می­یابد .چگالی سطحی گاز حفره­ای دوبعدی به پارامترهای ساختار مثلاً ضخامت لایه جداگر ، چگالی سطحی بارهای لایه پوششی ، ضخامت لایه پوششی ، و غیره وابسته است. علاوه بر این در ساختارهای دورآلاییده دریچه­دار با تغییر ولتاِژ دریچه چگالی سطحی گاز حفره­ای قابل کنترل می­باشد . این ساختارها در ساخت ترانزیستورهای اثر میدانی مورد استفاده قرار می­گیرند .

    در این پایان نامه ابتدا به تشریح ساختار دورآلاییده  Si/SiGe/Siمی­پردازیم و سپس مدلی نظری که بتواند ویژگیهای الکتریکی گاز حفره­ای دوبعدی درون چاه کوانتومی ساختارp-Si/SiGe/Si  و همچنین میزان انتقال بار آزاد به درون چاه و بستگی آن به پارامترهای ساختار را توجیه کند ارائه می دهیم  .  در ساختار دورآلاییده معکوس p-Si/SiGe/Si دریچه­دار با دریچه Al/Ti/Si از این مدل نظری استفاده می­کنیم و با برازش نتایج تجربی تغییرات چگالی سطحی گاز حفره­ای بر حسب ولتاژ دریچه توانسته­ایم چگالی سطحی بارهای میانگاه Ti/Si در این ساختارها را در محدوده (m-2) 1015 × 78/1 تا (m-2) 1015 × 63/4  ارزیابی کنیم  .

     

     

     

     

    فصل اول

    ساختارهای دورآلاییده

     

     

     

     

     

    مقدمه:

    امروزه قطعات جدیدی در دست تهیه­اند که از لایه­های نازک متوالی نیمه­رساناهای مختلف تشکیل می شوند . هر لایه دارای ضخامت مشخصی است که به دقت مورد کنترل قرار می گیرد و از مرتبه 10 نانومتر است . اینها ساختارهای ناهمگون نامیده می شوند . خواص الکترونی لایه­های بسیار نازک را می توان با بررسی ساده­ای که برخی از اصول اساسی فیزیک کوانتومی را نشان می دهد به دست آورد [31] .

    در این فصل ابتدا به بررسی خواص نیمه­رسانا می پردازیم سپس با نیمه­رساناهای سیلیکان و ژرمانیوم آشنا می شویم و بعد از آن انواع روشهای رشد رونشستی و ساختارهای ناهمگون را مورد بررسی قرار  می دهیم و همچنین ساختارهای دورآلاییده را بررسی می کنیم و در آخر نیز به بررسی کاربرد ساختارهای دورآلاییده و ترانزیستورهای اثر میدانی می پردازیم.   

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

     

    1-1 نیمه­رسانا:

     

    در مدل الکترون مستقل الکترون­های نوار کاملاً پر هیچ جریانی را حمل نمی­کنند این یک روش اساسی برای تشخیص عایق­ها و فلزات از هم است . در حالت زمینه یک عایق تمام نوارها یا کاملاً پر یا کاملاً خالی هستند اما در حالت زمینه یک فلز حداقل یک نوار به طور جزئی پر است . روش دیگر تشخیص عایق­ها و فلزات بحث گاف انرژی است گاف انرژی یعنی فاصله بین بالاترین نوار پر و پایین­ترین نوار خالی .

    یک جامد با یک گاف انرژی در   عایق خواهد بود. در نتیجه با گرم کردن عایق همچنانکه دمای آن افزایش می­یابد بعضی از الکترون­ها به طور گرمایی تحریک شده و از گاف انرژی به سمت پایین­ترین نوار غیر اشغال گذار می­کنند . جای خالی الکترون­ها در نوار ظرفیت را حفره می­نامند این حفره­ها ماهیتی مانند بار مثبت دارند در نتیجه در روند رسانش هم الکترون­ها و هم حفره­ها شرکت می­کنند . الکترون­های برانگیخته شده در پایین­ترین قسمت نوار رسانش قرار می­گیرند در صورتیکه حفره­ها در بالاترین قسمت نوار ظرفیت واقع می­شوند .

    جامداتی که در  عایق بوده اما دارای گاف انرژی به اندازه­ای هستند که برانگیزش گرمایی منجر به مشاهده رسانشی در  شود به عنوان نیمه­رسانا شناخته می­شود .

    ساده­ترین عناصر نیمه رسانا از گروه چهارم جدول تناوبی هستند که به آنها نیمه­رساناهای تک عنصری می­گویند سیلیکون و ژرمانیوم دو عنصر مهم نیمه­رساناها هستند . علاوه بر عناصر نیمه­رسانا ترکیبات گوناگون نیمه­رسانا هم وجود دارد . GaAsیک نمونه نیمه­رساناهای  است که از ترکیب عناصر گروه  (Ga) و گروه(As) بدست آمده­اند و در ساختار زینک بلند متبلور می­شوند . همچنین بلور نیمه­رسانا از عناصر گروه   و  هم بوجود می­آید که می­تواند ساختار زینک­بلند داشته باشد و به عنوان نیمه­رساناهای قطبی شناخته شده­اند [1].

    1-2  نیمه­رسانای با گذار مستقیم و غیر مستقیم:             

     

     هرگاه کمینه نوار رسانش و بیشینه نوار ظرفیت یک نیمه­رسانا در یک نقطه فضایk  قرار بگیرند به چنین نیمه­رسانایی نیمه رسانای با گذار مستقیم می­گویند.

    اما اگر کمینه نوار رسانش و بیشینه نوار ظرفیت یک نیمه­رسانا در یک نقطه فضای k  قرار نگیرند به چنین نیمه­رسانایی نیمه­رسانای با گذار غیر مستقیم می­گوییم.

    الکترون­ها کمینه نوار رسانش و حفره­ها بیشینه نوار ظرفیت را اشغال می­کنند [1] .

     

     

     

     

     

                                      (b)                                                            (a)

    شکل(1-1) : نمودار نیمه-رسانای با گذارهای مستقیم و غیر مستقیم . (a) نیمه­رسانای با گذار مستقیم .(b) نیمه­رسانای با گذار غیر مستقیم [1] .

     

     

     

     

    1-3 جرم موثر :

     

    الکترون­ها در بلور بطور کامل آزاد نیستند بلکه با پتانسیل متناوب شبکه برهمکنش دارند . در نتیجه حرکت موج ذره­ای آنها را نمی توان مشابه الکترون­ها در فضای آزاد دانست . برای اعمال معادلات معمولی الکترودینامیک به حامل­های بار در یک جامد باید از مقادیر تغییر یافته جرم ذره استفاده کنیم در این صورت اثر شبکه منظور شده و می­توان الکترون­ها و حفره­ها را به صورت حامل­های تقریباً آزاد در بیشتر محاسبات در نظر گرفت .

    جرم موثر یک الکترون در ترازی با رابطه معین (E,K) به صورت زیر است :  

     

    (1-1)                                                                                   

    پس انحنای نوار تعیین کننده جرم موثر الکترون است . برای نوار متمرکز حول K=0 رابطه (E;K) در نزدیکی حداقل معمولاً سهموی است :

    (1-2)                                                                      

    این رابطه نشان می­دهد که جرم موثر در نوار سهموی ثابت است .

       انحنای         در محل حداقل­های نوار رسانش مثبت ولی در محل حداکثرهای نوار ظرفیت منفی است . بنابراین الکترون­ها در نزدیکی بالای نوار ظرفیت دارای جرم موثر منفی هستند . الکترون-های نوار ظرفیت با بار منفی و جرم منفی در یک میدان الکتریکی در همان جهت حفره­های با بار و جرم مثبت حرکت می­کنند . در جدول زیر جرم­های موثر بعضی از مواد آورده شده است . جرم موثر الکترون با  و جرم موثر حفره با  نشان داده می شود [28] .

     

     

     

    یک بلور نیمه­رسانای کامل فاقد هرگونه ناخالصی یا نقائص بلوری به نام نیمه­رسانای ذاتی شناخته می­شود . در چنین ماده­ای هیچگونه حامل آزادی در صفر کلوین وجود ندارد زیرا نوار ظرفیت از الکترون­ها پر شده و نوار رسانش خالی است . در دماهای بالاتر با برانگیزش گرمایی الکترون-های نوار ظرفیت به نوار رسانش از طریق گاف نواری زوج-های الکترون حفره تولید می­شود . این زوج­ها تنها حامل­های موجود در ماده ذاتی هستند .

    بدلیل تولید زوج الکترون­ها و حفره­ها تراکم  از الکترون­های نوار رسانش (تعداد الکترون­ها در هر سانتی متر مکعب ) برابر با تراکم  از حفره-ها در نوار ظرفیت (تعداد حفره­ها در هر سانتی متر مکعب ) است . هر یک از این تراکم حامل­های ذاتی را معمولاً با  نمایش  می­دهند . پس برای ماده ذاتی داریم :

    (1-3)   

                                  

    برانگیختی حامل­های ذاتی به طور نمایی به        بستگی دارد که در آن Eg گاف انرژی                   است و این بستگی به صورت رابطه زیر است [38]:     

    (1-4) 

     

     مقدار ni در دمای اتاق برای  Si، Ge و GaAs به ترتیب برابر با (cm-3 )1010 × 45/1،          (cm-3 )1012 × 5/2 و (cm-3 )106 × 79/1 است .                                        

      زوج­های الکترون حفره در مدل پیوند کووالانسی از بلور Si

     

     1-5 نیمه­ رسانای غیر ذاتی و آلایش  :

     

    علاوه بر حامل­های ذاتی تولید شده با گرما می­توان با وارد کردن تعمدی ناخالصی به بلور حامل­های اضافی در نیمه­رساناها بوجود آورد . این فرایند مرسوم به آلایش متداولترین روش برای تغییر رسانایی در نیمه­رساناهاست .

    با عمل آلایش می­توان بلور را طوری تغییر داد که دارای اکثریتی از الکترون­ها یا حفره­ها بشود . پس توسط آلایش دو نوع نیمه­رسانا بوجود می­آید : نوع  (اکثریت الکترونی) و نوع (اکثریت حفره­ای ). هنگامیکه بر اثر آلایش در یک بلور تراکم حالت تعادل حامل-های آن و  با تراکم ذاتی حامل­ها  تفاوت داشته باشد گوییم ماده غیر ذاتی است .

     

    (جداول و نمودار در فایل اصلی موجود است)

     

  • فهرست:

    فصل اول : ساختارهای دورآلاییده
    مقدمه 2
    1-1 نیمه رسانا 3
    1-2 نیمه رسانا با گذار مستقیم و غیر مستقیم 4
    1-3 جرم موثر 4
    1-4 نیمه رسانای ذاتی 6
    1-5 نیمه رسانای غیر ذاتی و آلایش 7
    1-6 نیمه رساناهای Si و Ge 10
    1-7 رشد بلور 13
    1-7-1 رشد حجمی بلور 15
    1-7-2 رشد رونشستی مواد 15
    1-7-3 رونشستی فاز مایع 16
    1-7-4 رونشستی فاز بخار 18
    1-7-5 رونشستی پرتو مولکولی 19
    1-8 ساختارهای ناهمگون 20
    1-9 توزیع حالت‌های انرژی الکترون‌ها در چاه کوانتومی 21
    1-10 انواع آلایش 23
    1-10-1 آلایش کپه¬ای 24
    1-10-2 آلایش مدوله شده (دورآلاییدگی) 24
    1-10-3 گاز الکترونی دوبعدی 25
    1-10-4 گاز حفره¬ای دوبعدی 26
    1- 11 ویژگی و انواع ساختارهای دور آلاییده 27
    1-11-1 انواع ساختارهای دورآلاییده به¬¬لحاظ ترتیب رشد لایه¬ها 27
    1-11-2 انواع ساختار دور آلاییده به لحاظ نوع آلاییدگی ( n یا p ) 28
    1-11-3 انواع ساختار دور آلاییده دریچه¬دار 29
    1-12 کاربرد ساختارهای دور آلاییده 33
    1-12-1 JFET 33
    1-12-2 MESFET 34
    1-12-3 MESFET پیوندگاه ناهمگون 35
    فصل دوم : اتصال فلز نیمه رسانا (سد شاتکی) 38
    مقدمه 39
    2-1 شرط ایده آل و حالتهای سطحی 41
    2-2 لایه تهی 44
    2-3 اثر شاتکی 47
    2-4 مشخصه ارتفاع سد 51
    2-4-1 تعریف عمومی و کلی از ارتفاع سد 51
    2-4-2 اندازه گیری ارتفاع سد 57
    2-4-3 اندازه گیری جریان – ولتاژ 57
    2-4-4 اندازه گیری انرژی فعال سازی 60
    2-4-5 اندازه گیری ولتاژ- ظرفیت 60
    2-4-6 تنظیم ارتفاع سد 62
    2-4-7 کاهش سد 62
    2-4-8 افزایش سد 63
    2-5 اتصالات یکسوساز . 64
    2-6 سدهای شاتکی نمونه 64
    فصل سوم : انتقال بار در ساختارهای دورآلاییده 66
    مقدمه 67
    3-1 ساختار دور آلاییده معکوس p-Si/Si1-XGeX/Si . 68
    3-2 ساختار نوار ظرفیت ساختار دور آلاییده معکوسp-Si/SiGe/Si 69
    3-3 محاسبه انتقال بار در ساختارهای دور آلاییده. 71
    3-3-1 آلایش مدوله شده ایده¬آل 71
    3-3-2 محاسبات خود سازگار چگالی سطحی حاملها 74
    3-3-3 اثر بارهای سطحی بر چگالی گاز حفره¬ای 74
    3-4 روشهای کنترل چگالی سطحی حاملها 76
    3-4-1 تاثیر تابش نور بر چگالی سطحی حاملها 77
    3-4-2 تاثیر ضخامت لایه پوششی بر چگالی سطحی حاملها 78
    3-4-3 دریچه دار کردن ساختار دور آلاییده 79
    3-5 ساختارهای دورآلاییده معکوس p-Si/SiGe/Si با دریچه بالا 79
    3-6 انتقال بار در ساختارهای دورآلاییده معکوس با دریچه بالا 82
    3-7 تاثیر بایاسهای مختلف بر روی چگالی سطحی ¬حفره¬ها 83
    3-8 ملاحظات تابع موج. 86
    3-9 وابستگی Zav به چگالی سطحی حاملها در ساختارهای بی دریچه 87
    3-10 وابستگی Zav به چگالی سطحی حاملها در ساختارهای دریچه¬دار 87
    فصل چهارم : نتایج محاسبات 89
    مقدمه 90
    4-1 محاسبات نظری ساختارهای دورآلاییده بی دریچه Si/SiGe/Si 91
    4-1-1 محاسبات نظری ns برحسب Ls 91
    4-1-2 محاسبات نظری ns برحسب NA 96
    4-1-3 محاسبات نظری ns برحسب nc 99
    4-1-4 محاسبات نظری کلیه انرژیهای دخیل برحسب Ls 100
    4-2 محاسبات نظری ساختارهای دورآلاییده دریچه¬دار Si/SiGe/Si 100
    4-2-1 محاسبات نظری ns برحسب vg 100
    4-2-2 بررسی نمونه ها با nsur متغیر و تابعی خطی از vg با شیب مثبت 107
    4-2-3 بررسی نمونه ها با nsur متغیر و تابعی خطی از vg با شیب منفی 114
    فصل پنجم : نتایج 124
    5-1مقایسه سد شاتکی با ساختار دورآلاییده دریچه دار p-Si/SiGe/Si 125
    5-2 بررسی نمودارهای مربوط به چهار نمونه 125
    پیوست 129
    چکیده انگلیسی (Abstract) 139
    منابع 141

     

    منبع:

     

     [1] Ashcroft , N. W. , Mermin , N. D, , Solid state physics. , (1976).

    [2] Ando , T. , J. Phys. Soc. Japan , Vol . 51 , . NO. 12 , PP. 3900 (1982).

    [3] Ando , T. , Fowler , A. B. , Stern , F. , Reviews . Modern physics , Vol. 54 ,

         NO. 2 , PP. 437(1982) .

    [4] Bardeen , J., Phys. Rev . PP. 717(1947).

    [5] Bastard , G. , Surface science , 142, PP. 284(1984).

    [6] Coleridge , P.T., Williams , R.L., Feng , Y., Zawadzki, P. , Phys. Rev. , B56, PP.

          12764(1997)

    [7]  Emeleus , C. J. , Whall , T. E. , Smith , D. W. , Kubiak , R. A. , Parker , E. H.

           C., Kearney , M. J. , J. Appl . phys. , 73(8), PP. 3852(1993).

    [8] Emeleus , C. J . , Sadeghzadeh , M. A. , Phillips , P. J. , Parker , E. H. C. ,

         Whall , T. E. , Pepper , M. Evans , A. G. R. , Appl. Phys. Lett. , 70(14) ,

          PP.1870(1997).

    [9] Fang , F. F. , Howard , W. E. , Phys. Rev. Lett. , 16 , PP.797(1966).

    [10] Hamilton, A. R., Frost , J. E. F. , Smith , C. G., Kelly , M. J. , Linfield , E. h.,

            Ford, C. J. B., Ritchie, D. A. C. , Papper, M., Hasko , D. G., Ahmed , H. Appl.

           Phys. Lett. , 60(22), PP.2782(1992).

    [11] Hirakawa , D. C. , Sakaki , Yoshino , J. , Phys. Lett. , 45(3) , PP. 253(1984).

    [12] Houghton , D. C., Baribea, J. M. , Rowell , N. L. , J. Mat. Sci., Material in Elect.

           , 6, PP. 280(1995) .

    [13] HUANG , l. J., Lau , W. M., Vac, J., Sci.Technol. , A10 , PP. 812(1992).

    [14] Ismail , K. Arafa , M. , Stern , F. , Chu , J. O. , Meyerson , B. S. , Appl. Phys. 

          Lett. , 66(7) , PP. 842(1995) .

    [15] Koing , U., Schaffler , F. , Electron. Lett. , 29 , PP. 486(1993) .

    [16]  Lee , M .L. , Fitzgerald , Bolsara , M. T. , Carrier , M. T. , J. ,Appl. Phys. , 97 ,

             011101(2005)

    [17] Pearson , G. L. , Bardeen , J. , Phys .Rev. , Vol . 75, NO.5, PP.865(1949).

    [18] People , R. , Been , J. C. , Lang, D. V. , Sargent , A. M. , Stomer, H. L. ,           

    Wecht , K. W. , Lynch , R. T. , Baldwin , K. , Appl. Phys. Lett. , 45(11),

            PP.1231(1984).

    [19] Sadeghzadeh , M. A.  Electrical Properties of Si/SiGe/Si Inverted

            Modulation Doped Stractures , Ph . D. Thesis , University of Warwick ,            

           (1998) .

    [20] Sadeghzadeh , M. A.  , Parry , C.P. , Phillips , P. J. , Parker , E. H. C. , 

            Whall , T. E. , Appl. Phys. Lett. , 74(4) , PP. 579 (1999) .

    [21] Sadeghzadeh , M. A. , Appl. Phys. Lett. Vol. 76 , NO.3, PP. 348(2000).

    [22] Simmons, M. Y., Hamilton , A. R.,Stevens, S. J., Ritchie, D. A., Pepper , M. ,

            Kurobe , A., Appl.Phys.Lett., 70(20) , PP.2750(1997) .

    [23] Stern , F. , Sankar , D. S. , Phys . Rev. B, VOL. 30 NO. 2 , PP. 840(1984).

    [24] Sze , S. M. , Physics of semiconductors . , PP. 12(1996).

    [25] Sze , S. M. , Physics of semiconductor Devices . , PP. 245(1981) .

    [26] Verdenckt Vandebroec, S. , Crabbe, E. F. , Meyerson , B. S. , Harame, D. L.

             Restle, P. J. , Stork, J.M.C. , Jonson, J.B.,IEEE.ED41,PP.90(1994) .

    [27] Whall , T. E. , Thin Solid Films,294 ,PP. 160(1997).

    [28] استریتمن, بن جی , فیزیک الکترونیک , رویین تن لاهیجی , غلامحسن ,     

           صمدی , سعید , دانشگاه علم و صنعت ایران , تهران , 1376 .

    [29] ادیبی , اکبر , فیزیک الکترونیک و تکنولوژی نیمه هادیها , مرکز نشر دانشگاهی

             صنعتی امیر کبیر , تهران , 1375 .

    [30] بهاتاچاریا , پالاب , قطعات نیمه هادی الکترونیک نوری , محمد نژاد , شهرام ,

             دانشگاه امام حسین(ع) , موسسه چاپ و انتشارات , تهران , 1381 .  

    [31] روزنبرگ , فیزیک حالت جامد , عشقی , حسین , عزیزی , حسن , مرکز نشر  

             دانشگاهی , تهران, 1376.  

    [32] زی , اس. ام . , فیزیک و تکنولوژی قطعات نیمرسانا , سدیر عابدی , غلامحسین ,

           موسسه چاپ و انتشارات آستان قدس رضوی , مشهد , 1375 .

    [33]  صادق زاده , محمد علی , انصاری پور , قاسم , مقاله نامه ششمین کنفرانس ماده

              چگال , 1381 , ص 9 .

    [34] صادق زاده , محمد علی , انصاری پور , قاسم , کنفرانس فیزیک ایران , 1380 ,

             ص 78 .

    [35] صادق زاده , محمد علی , کنفرانس فیزیک ایران , 1379 , ص 74 . 

    [36] صادق زاده , محمد علی , فخارپور ,مهسا ,مقاله نامه دومین کنفرانس علوم و

             تکنولوژی سطح , 1385 ,ص 1 .

    [37] عمر , علی , فیزیک حالت جامد , نبیونی , غلامرضا , دانشگاه اراک , اراک ,

             1381 , جلد دوم .   

    [38] کیتل , چارلز , آشنایی با فیزیک حالت جامد , پور قاضی , اعظم , صفا , مهدی ,

             عمیقیان , جمشید , مرکز نشر دانشگاهی, تهران , 1373 .

ساختار بکارگيري براي روتينگ براساس مسير پرتابي در شبکه هاي خاص: مقدمه: روتينگ درشبکه هاي خاص به دلايل بسياري کار پيچيده اي است.گره ها حافظه کم و نيروي کم دارند وآنها نمي توانند جدول هاي روتينگ را براي پروتکل هاي روتينگ شناخته شده به ابزارهاي بزرگ ح

يکي از مسائل مهم در طراحي سازه¬هاي آبي، معيارهاي هيدرولوژيکي مي¬باشد لذا توجه به دوره¬هاي هيدرولوژيکي حوزه¬ها، امري ضروري به نظر مي¬رسد. تحقيق حاضر به تعيين دوره¬هاي هيدرولوژيکي موجود در حوزه آبخيز کوشک¬آباد خراسان رضوي با استفاده از سامانه اطلاعات

ساختارهاي دولت و حسابداري در شهرداري هاي بزرگ خلاصه اکثر شهرهاي ايالات متحده با روش هاي ( فرم هاي ) شهردار شورا و يا شورا مدير دولت با حرکتي تدريجي به سمت شهرهاي شورا مدير اداره مي شوند . مدلسازي نظري نشان مي دهد که روش شورا مدير کارآمدتر است چون

ساختارهاي دولت و حسابداري در شهرداري هاي بزرگ خلاصه اکثر شهرهاي ايالات متحده با روش هاي ( فرم هاي ) شهردار شورا و يا شورا مدير دولت با حرکتي تدريجي به سمت شهرهاي شورا مدير اداره مي شوند . مدلسازي نظري نشان مي دهد که روش شورا مدير کارآمدتر است چون

تحقيق حاضر جهت مشخص شدن فوايد برگزاري دوره هاي آموزشي IT براي معلمان مي باشد که روشن گردد بر پايي چنين دوره هايي مي تواند بر روي عقايدو افکار معلمان تاثير گذار باشد يا خير ؟ آيا با برگزاري چنين دوره هايي سير تحول فکري و تغييرات لازمه کار معلمي

1 . 3 . 5 پاسکال : در اين بخش يک ارزيابي از ويژگيهاي پاسکال براي برنامه نويسي بزرگ ارائه مي کنيم . به همين دليل نسخه اصلي زبان را دراينجا در نظر مي گيريم . اکثر بي مناسبتي هاي بحث شده در اينجا توسط تأکيدات انجام شده توسط اجراهاي مدرن تصحيح شده اند

لايه أنيوسفر در فرکانس حدود 30 مگا هرتز به صورت شفاف عمل مي کند. علائم ارسالي بر روي اين فرکانس مستقيما از ميان آن مي گذرد و در فضاي بيرون گم مي شوند. اين فرکانس ها همچنين در خط مستقيم ديد حرکت مي کنند. به اين دلايل براي مقاصد ارتباطي آن ها را باي

خلاصه افزایش دسترسی به آموزش عالی و حرکت به سوی همگانی کردن آن از پیش شرطهای اساسی توسعه علوم و فناوری در کشور است. با بررسی افزایش تقاضا برای بهره‌مندی از آموزش عالی در علوم پزشکی، موانع اصلی تحقق آن را می‌توان در علل ذیل عنوان نمود: 1- عدم گسترش مناسب دانشگاهها در جهان و بخصوص در ایران. 2- پیدایش رشته های نوظهور و تنوع رشته ها. 3- کاستی بودجه دانشگاهها که تا حدی زمینه رقابت ...

نشریه نانوتکنولوژی، سال 2002، شماره 13، (243-247) چکیده قرار است نانوتکنولوژی یکی از فناوریهای کلیدی و کارآمد قرن 21 شود. قابلیت اقتصادی آن، حاکی از وجود بازاری بالغ بر چندصد میلیارد یورو برای این فناوری در دهه بعد است. بنابراین نانوتکنولوژی موجب جهت‌دهی فعالیتهای بسیاری از بخشهای صنعتی و تعداد زیادی از شرکتها در جهت آماده‌سازی آنها برای این رقابت جدید شده است. در همین زمان ...

چکیده یکی از مطالبی که در نام سازی برای محصولات کمتر مورد توجه قرار گرفته است، اخلاقیات در نام سازی می‌باشد. در این مقاله اهداف نام سازی، مسئولیت اجتماعی، عوامل موثر برخرید اخلاقی، نقص‌های مدل‌های نام سازی، ارتباط آن با شهرت شرکت و دیدگاههای مرتبط با آن و لزوم توجه به نظرات اخلاقی تشریح شده است. کلیدواژه : نام و نشان تجاری؛ نام سازی؛ اخلاقیات؛ مسئولیت اجتماعی؛ تصویر نام و نشان؛ ...

ثبت سفارش
تعداد
عنوان محصول